Metrohm 789 Robotic Sample Processor XL - Manuel (Page 86)

3.4 Instructions
78 Metrohm Sample Processor, Maniement
accès à position 1. Si on utilise la fonction MOVE précéd. sur la posi-
tion de rack 1, la position la plus haute possible est alors atteinte.
spéc.1 jusqu’à 16 – positions spéciales de bécher réservées sur le rack
d’échantillons. Ces dernières sont définies dans la configuration de
rack, voir également page 63.
+pivot., -pivot. – pivotement relatif du bras pivotant d'un angle d'in-
crément déterminé. Le signe précédent donne la direction de rotation.
L'angle est défini sous Paramètres >Param. du passeur .
+rotat., -rotat. – rotation relative du rack d'un angle d'incrément dé-
terminé. Le signe précédent donne la direction de rotation. L'angle est
défini sous Paramètres >Param. du passeur .
Positionnement absolu – déplacement vers la position rack choisi,
même si celle-ci est une position spéciale de bécher réservée.
Positionnement relatif – si une position de rack numérique est dotée
d’un signe positif ou négatif, la position sélectionnée de rack se réfère à
chaque fois de manière relative à la valeur de la variable SAMPLE,
c’est à dire relativement à la position d’échantillon actuelle.
Remarques
Dans un déroulement de méthode, une instruction MOVE déplace
l’élévateur (ou les deux élévateurs) automatiquement, en position de ro-
tation.
Après une fonction +/-pivot. ou +/-rotat. l'élévateur peut être dé-
placé librement, bien que le rack n'ait pas été déplacé vers une posi-
tion de rack définie. Pour cette raison il existe le danger qu'avec le
mouvement de l'élévateur peut causer du dommage. Cette fonction
doit alors être utiliser avec précaution.
La direction de rotation est choisie de manière standard automatique-
ment par le Sample Processor. Dans le menu des paramètres, sous
>Param. du passeur , il est possible de fixer la direction de rotation et la
vitesse de rotation de manière spécifique à la méthode. Celles-ci peu-
vent être modifiées dans une séquence avec l’instruction DEF corres-
pondante.
Dans le cas où, sur la position de rack choisie ne se trouve aucun bé-
cher, ceci est reconnu par le détecteur de bécher (si activé) de la tour
correspondante et l’appareil réagit en conséquence.
La réaction du Sample Processor à un bécher manquant peut être défi-
nie dans le menu des paramètres, sous >Param. du passeur . On a au
choix, soit une interruption du déroulement avec affichage d’un mes-
sage d’erreur, soit la sélection de la position de rack suivante (voir
page 70). Si un bécher spécial est lui manquant, le déroulement est
alors toujours interrompu.
Si un bras pivotant avec un capteur de bécher Piezo est installé est ac-
tivé, l'élévateur, après l'instruction MOVE échant. , est déplacé à l'hauteur
de travail pour contrôler l'existence du bécher d'échantillon.