Metrohm 789 Robotic Sample Processor XL Manuel d'utilisation

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3.7 Rack d’échantillons

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Metrohm Sample Processor, Maniement

La position de travail sert à fixer la position de l’élévateur, sur laquelle

le traitement d’un échantillon doit être effectué. En fonction de la hau-

teur des récipients échantillons, on peut fixer le réglage idéal pour un

rack d’échantillons particulier. On peut avoir directement accès à cette

position de travail à l’aide du mode manuel, avec la touche <END>.

Dans une séquence de déroulement, on peut programmer celle-ci avec

LIFT: 1 : trav. mm

.

La position de rinçage sert à fixer la position de l’élévateur, à laquelle

par exemple, l’électrode doit être rincée. En fonction de la hauteur des

récipients échantillons, on peut fixer le réglage idéal pour un rack

d’échantillons particulier. Dans une séquence de déroulement, on peut

programmer celle-ci avec

LIFT: 1 : rinçage mm

.

La position de rotation sert à fixer la position de l’élévateur à laquelle

le rack effectue une rotation. Si l’élévateur se trouve en dessous de la

position de rotation, avant le mouvement de rack l'élévateur est monté à

la hauteur de rotation, même si on se trouve dans le mode de manie-

ment manuel. Ceci est une sécurité, qui permet d’éviter dommages aux

électrodes occasionnés par des rotations de rack. Condition sine qua

none est un réglage correct de cette hauteur de rotation. Dans une sé-

quence de déroulement, on peut programmer le positionnement de

l’élévateur sur la position de rotation avec

LIFT:1 : rotat. mm

. Avec

une instruction MOVE dans le déroulement de la méthode, l’élévateur

est positionné automatiquement en position de rotation, avant que le

rack d’échantillons soit tourné.

La position spéciale est une position d’élévateur supplémentaire défi-

nie par l’utilisateur. Elle peut être sélectionnée par exemple pour pipeter

avec un bras pivotant de manière à ce que, la pointe de pipetage soit

positionnée juste au-dessus de la solution échantillon, pour former une

bulle de séparation (bulle d’air). Dans une séquence de déroulement,

on peut programmer celle-ci avec

LIFT: 1 : spécial mm

.

Le rayon de bécher peut être utilisé, pour éviter qu’avec une tête de ti-

trage, on essaie d’avoir accès à un récipient trop étroit. Ceci pourrait

provoquer des dommages aux électrodes ou au récipient échantillon.

Grâce à l’entrée de ce rayon de bécher, le Sample Processor peut dé-

cider, si la tête de titrage ou de transfert sur l’élévateur "tient dans" le

récipient échantillon utilisé, voir aussi chapitre 3.2.2.

Le capteur de bécher reconnaît, si un récipient échantillon est présent

ou non. Les Metrohm Sample Processors soutiennent pour le moment

des capteurs optiques infrarouges. Dans chaque tour d’un Sample

Processor, un capteur de bécher optique est installé. Dans la définition

de rack, il est possible d’activer le capteur de bécher (

tour

) ou de le

désactiver (

non

).

Le réglage pour le capteur de bécher peut être effectué de manière in-

dividuelle pour les véritables échantillons et pour les positions spéciales

individuelles, voir ci-dessous.

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