Metrohm 789 Robotic Sample Processor XL - Manuel (Page 85)

3.4 Instructions
Metrohm Sample Processor, Maniement 77
MOVE
8
MOVE >Séquence d'échant.
2 MOVE 1 : échant.
1,2
échant.,
ext.1…ext.4
spéc.1…16
1…999
précéd., suivant
+pivot., -pivot.
+rotat., -rotat.
1...999
+/-1…999
Positionner le bécher / Faire
tourner le bras pivotant
1 er Paramètre: tour
2 e Paramètre: position
Avec l’instruction MOVE, il est possible d’aller vers des positions de
rack prédéfinies, c’est à dire, que le rack d’échantillons est positionné,
par l’intermédiaire d’une rotation du plateau tournant, de manière que la
position de rack sélectionnée soit placée devant la tour 1 ou 2 (si pré-
sente). Si aucune 786 Swing Head n’est montée, il est seulement pos-
sible de d'aller vers les positions de rack d’un rack à rangée unique.
Avec une 786 Swing Head
Si une 786 Swing Head est montée, il est possible de sélectionner
n’importe quelle position de rack. La position est calculée à l'aide de
l’angle de rotation du rack et l’angle de pivotement du bras pivotant.
Le bras pivotant d’une 786 Swing Head peut être positionné, indépen-
damment d’une position de rack, sur une position externe quelconque.
Les positions externes sélectionnables ext.1 jusqu’à ext.4 peuvent être
définies à l’intérieur du domaine de pivotement total de 0° jusqu’à
l’angle maximum de pivotement du bras pivotant. Il est ainsi par exem-
ple possible, d’avoir accès à une cellule de titrage montée à côté du
rack d’échantillons.
Exemples:
MOVE 1 échant.
MOVE 1 ext.1
MOVE 2 spéc.1
MOVE 2 5
MOVE 1 suivant
MOVE 1 +2
Placer bécher échantillon (défini par la variable SAMPLE) devant la tour 1
Pivoter le bras pivotant sur tour 1 en position externe 1
Placer bécher spécial 1 devant tour 2
Placer position de rack 5 devant tour 2 (positionnement absolu)
Placer position de rack suivante devant tour 1
En partant de la position d’échantillon actuelle (variable SAMPLE), placer une position
de plus que la prochaine position (c’est à dire deux places plus loin) devant tour 1 (po-
sitionnement relatif)
Paramètre
échant. – Position de rack, correspondant à la valeur actuelle de la va-
riable SAMPLE, voir aussi page 76.
ext.1 jusqu’à 4 – positions angulaires prédéfinies du bras pivotant. Ces
dernières sont définies dans la configuration d’une tour, voir également
page 61.
suivant , précéd. – à partir de la position momentanément actuelle de
rack, on a accès, soit à la position suivant immédiatement ( suivant ),
respectivement soit à la position précédant immédiatement ( précéd. ).
Les positions spéciales de bécher sont négligées. Si on utilise la fonc-
tion MOVE suivant sur la position de rack la plus élevée, on a alors