Metrohm 838 Advanced Sample Processor Manual - Manuel (Page 99)

3 Annexe
applications de mémoriser une méthode optimisée, sous un nom spé-
cifique.
Pendant une série de détermination avec le 838 Advanced Sample
Processor, il est seulement possible d’analyser des échantillons du
même type, nécessitant les mêmes volumes de solution auxiliaire.
Echantillons
Le paramètre 'Nombre d’échantillons' doit correspondre exactement au
nombre effectif d’échantillons à traiter. Après le dernier échantillon, il
convient de placer un récipient contenant la solution de rinçage sur le
rack.
Rack d’échantillons 6.2041.450
Les échantillons et solution auxiliaires sont placés sur le rack. Il est re-
commandé d’utiliser les deux rangées intérieures avec les récipients de
11 mL. La fréquence de détermination de la courbe de calibrage (avec
technique
Calibration "DT Record calibration curve") dépend de la
composition chimique du bain galvanique.
Attention: En fin de série, il faut toujours placer un récipient échantil-
lon rempli d’eau pour le rinçage.
Disposition: au début, une solution de suppresseur standard, puis des
échantillons et en fonction de la chimie, entre deux de nouveau une so-
lution de suppresseur standard pour le renouvellement du calibrage. A
la fin, de l’eau pour le rinçage.
Exemple pour un rack d’échantillons comportant 14 solutions échantil-
lons, 2 solutions de suppresseur standard et une solution de rinçage:
1 2
3
28
27
29 30
31
56
55
57 58
59
84
83
85 86
87
112
111
Suppressor-Standard
Spüllösung
nicht gebraucht
Probe
Définir avant chaque nouveau départ, la position du premier échantil-
lon. Appuyer sur
<SAMPLE> sur le clavier du 838 et entrer la posi-
tion de rack correspondante
Vous trouverez de plus amples informations, dans le mode d’emploi du
logiciel 8.797.8013 du VA Computrace 797, chap. 8.6
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