Metrohm 838 Advanced Sample Processor Manual - Manuel (Page 29)

2 Maniement
0…235 mm (en mm en partant de la butée supérieure)
>>Charger rack
rayon de bécher * mm
Rayon de bécher effectif des positions
d’échantillons du rack
*, 1…100 mm * = quelconque
Ce réglage est nécessaire au contrôle automatique du rayon de bécher, voir
page 17.
>Charger rack
capteur bécher: non
Sélection du détecteur de bécher
tour, pivot., non
Pas implémenté.
>Charger rack
rack offset 0.00°
Correction d’angle de pivotement du
rack d’échantillons*
)
-5.00…0.00…5.00°
* ) Avec <LEARN>, il est possible de régler toutes les positions d’élévateur
citées ci-dessus et le rack offset .
Positions béchers spéciaux
>>Charger rack
>>>Pos. spéciales
Sous-menu relatif aux positions spécia-
les
Ouvrir avec <ENTER>
Les positions de béchers spéciaux sont des places prédéfinies sur un rack
d’échantillons, qui ne sont pas traitées comme positions échantillons. Elles
peuvent être occupées par des béchers de rinçage ou de conditionnement
et être utilisées d'une manière précise au cours du déroulement d’une mé-
thode. Il est possible de définir 16 positions spéciales par rack. Pour chaque
bécher spécial, il est possible d’entrer la hauteur de travail de l’élévateur,
ainsi que le rayon de bécher, voir plus haut.
Sélection d’un bécher spécial
>>>Pos. spéciales
bécher spécial 1
1…16
Position de rack du bécher spé-
cial >>Pos. spéciales 1
position de rack 0
et ainsi de suite jusqu’au bécher
spécial 16 0…max. n°. de position.
0 = non défini
>Définitions de rack
>>Mémoriser rack
Mémoriser les définitions de rack
Avec
<QUIT>,
accès
au niveau supé-
rieur
suivant
Pour mémoriser les modifications des définitions d’un rack d’échantillons, il
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