Metrohm 774 Oven Sample Processor Manuel d'utilisation
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5.3 Organisation des menus
>Définition de rack
1
pos. de travail
0 mm
Position de travail de l’élévateur (en
mm depuis la butée supérieure)
0…100 mm
La position de travail est utilisée pour
les déterminations d’échantillons
<CLEAR> permet de valider directement la position actuelle de l’élévateur.
>Définition de rack
1
pos. de rincage
0 mm
Position de rinçage de l’élévateur (en
mm depuis la butée supérieure)
0…100 mm
La position de rinçage est utilisée pour
le récipient de conditionnement
<CLEAR> permet de valider directement la position actuelle de l’élévateur.
>Définition de rack
1
pos. de rotation
0 mm
Position de rotation de l’élévateur (en
mm depuis la butée supérieure)
0…100 mm
<CLEAR> permet de valider directement la position actuelle de l’élévateur.
>Définition de rack
1
pos. spéciale
0 mm
Position de l’élévateur (en mm depuis
la butée supérieure)
0…100 mm
<CLEAR> permet de valider directement la position actuelle de l’élévateur.
>Définition de rack
1
>>Positions spéciales
Sous-menu des positions spéciales
Ouverture avec <ENTER>
Position du bécher spécial 1
>>Positions spéciales
bécher spécial 1
36
0… nombre pos.
Position du bécher spécial 2
>>Positions spéciales
bécher spécial 2
0
0… nombre pos.
etc... jusqu’au bécher spécial 8
Il est possible de définir jusqu’à 8 positions de bécher spécial. Pour plus de
détails sur les racks et les béchers spéciaux, voir chapitre 5.6 , pages 87 et
suivantes.
Configuration
>Unités de dosage
Sous-menu de réglages des unités de dosage
Ouverture du sous-menu avec <ENTER >
>Unités de dosage
unité de dos.
1
Sélection de l’unité de dosage (Dosi-
no 700 ou Dosimat 685)
1…12
L’adresse de l’unité de dosage (voir page 18) doit être confirmée par
<ENTER>. Celle-ci apparaît ensuite dans la première ligne du menu.
mit
<QUIT>
chst-
zur nä
höheren Ebene
Passer au ni-
veau supérieur
avec
<QUIT>
774 Oven Sample Processor, Mode d’emploi
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